供应CMP抛光液

CMP抛光液
 
  一．应用领域
  用于单晶硅、多晶硅、蓝宝石、液晶玻璃、镜头等抛光。

  二．产品特点
   1．采用严格的粒径控制工艺，具有纯度高、粒径均匀、易清洗、无橘皮、无雾化现象、抛光速率高、损伤层小等优点。
   2．可直接稀释使用，对抛光设备无腐蚀。

  三．性能指标
指标名称	型号及标准
	CMP30	CMP50	CMP80	CMP100	CMP150
粒径（nm）	20-40	40-60	60-90	100-130	140-170
外观	乳白
SiO2含量(重量)	30~40%
分散介质	水
pH值	2-11可调
保质期（月）	≥12

  四．使用方法
   1．可根据抛光操作条件用去离子水进行稀释。
   2．稀释后，粗抛时调节pＨ至11左右，精抛时调节pH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。
   3．循环抛光可以用原液。

  五．包装及储存
   1．采用聚乙烯塑料桶包装，主要包装规格有25Kg、250Kg。
   2．避免曝晒，贮存温度为5-35℃，低于0℃则产生冻胶而失效。
   3．避免敞口长期与空气接触。